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飛凱材料在集成電路制造領域提(ti)(ti)供(gong)多(duo)種高純(chun)溶劑(ji),能夠應(ying)用于12吋晶圓制造的光刻膠洗邊、蝕刻及(ji)后(hou)清洗制程。除此之外,公司提(ti)(ti)供(gong)定制化產(chan)品服(fu)務,能夠根據(ju)不(bu)同(tong)客(ke)戶的不(bu)同(tong)需求(qiu)開各種高純(chun)試劑(ji)。

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飛凱材料(liao)DUV底(di)部抗反射層材料(liao),搭配(pei)合適(shi)(shi)厚度可以(yi)將Al、Cu、W、GaAs等襯底(di)反射率降低到1%以(yi)下;具有良好的填隙能力以(yi)拓展工藝窗口,分別(bie)適(shi)(shi)用于(yu)各類(lei)KrF光(guang)刻制程(cheng)。

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飛凱材料KX系(xi)列(lie)G/H/I線通用高分辨率(lv)正性(xing)光刻(ke)膠,適(shi)合各種近(jin)紫外高分辨步進掃描(miao)光刻(ke)設備。選擇合適(shi)的旋(xuan)涂步驟及光刻(ke)工(gong)藝,可根據客戶需求定制(zhi)。

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